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dc.contributor.authorSchwarzer, Christian P. J.
dc.date.accessioned2025-11-28T02:36:30Z
dc.date.available2025-11-28T02:36:30Z
dc.date.issued2022
dc.date.submitted2025-11-20T09:34:44Z
dc.identifierONIX_20251120T102856_9783961475674_55
dc.identifierhttps://library.oapen.org/handle/20.500.12657/108267
dc.identifier.urihttps://doab-dev.siscern.org/handle/20.500.12854/206597
dc.description.abstractDie Entwicklung verlustarmer Leistungselektronik ermöglicht effiziente Elektromobilität und regenerative Energiesysteme. Mit den neuen, leistungsfähigeren Halbleitermaterialien wachsen auch die Anforderungen an das in der Leistungselektronik eingesetzte Fügematerial. Das sog. Silbersintern löst durch seine hervorragenden Materialeigenschaften und hohe Beständigkeit konventionelle Weichlote in leistungselektronischen Modulen ab. Die Verwendung von hochwertigen Silberpartikeln als Fügematerial führt allerdings auch zu gesteigerten Kosten für Leistungselektronik. In dieser Arbeit werden Kupferpartikel als Substitut für Silber in einem Fügematerial für Leistungselektronik untersucht. Die Eigenschaften der im Drucksintern erzeugten kupfernen Verbindungsschichten werden beschrieben. Die Auswertung der gesinterten Gefügestruktur, elektrischen Leitfähigkeit, Wärmeleitfähigkeit, thermischen Ausdehnung und mechanischen Eigenschaften wie Zugfestigkeit, Plastizität sowie Kriechverhalten ermöglichen die Einordnung des Kupfer-Sintermaterials gegenüber bestehenden Fügetechnologien. Der Einfluss der Prozessfaktoren (Druck, Temperatur und Prozesszeit) auf die Eigenschaften der gesinterten Kupferverbindung wird dargelegt und erlaubt die Bewertung der industriellen Umsetzbarkeit anhand eines Prozessfenster. In Alterungstests sowie passiven und aktiven Zuverlässigkeitstests wird das Potential von Kupfer als Fügematerial für Leistungselektronik der Zukunft gezeigt.
dc.languageGerman
dc.relation.ispartofseriesFAU Studien aus dem Maschinenbau
dc.rightsopen access
dc.subject.classificationthema EDItEUR::T Technology, Engineering, Agriculture, Industrial processes::TH Energy technology and engineering
dc.subject.classificationthema EDItEUR::T Technology, Engineering, Agriculture, Industrial processes::TG Mechanical engineering and materials::TGB Mechanical engineering
dc.subject.otherLeistungselektronik
dc.subject.otherIngenieurwissenschaften
dc.subject.otherDrucksintern
dc.subject.otherMaschinenbau
dc.subject.otherVerbindungstechnik
dc.subject.otherFügetechnologien
dc.subject.otherProduktionstechnik
dc.subject.otherKupfer
dc.titleKupfersintern als Fügetechnologie für Leistungselektronik
dc.typebook
oapen.identifier.doi10.25593/978-3-96147-567-4
oapen.relation.isPublishedByc959bbbe-f72d-4610-9020-ca0b4b38d28b
oapen.relation.isbn9783961475674
oapen.relation.isbn9783961475667
oapen.pages234
oapen.place.publicationErlangen
dc.seriesnumber401
dc.abstractotherlanguageDie Entwicklung verlustarmer Leistungselektronik ermöglicht effiziente Elektromobilität und regenerative Energiesysteme. Mit den neuen, leistungsfähigeren Halbleitermaterialien wachsen auch die Anforderungen an das in der Leistungselektronik eingesetzte Fügematerial. Das sog. Silbersintern löst durch seine hervorragenden Materialeigenschaften und hohe Beständigkeit konventionelle Weichlote in leistungselektronischen Modulen ab. Die Verwendung von hochwertigen Silberpartikeln als Fügematerial führt allerdings auch zu gesteigerten Kosten für Leistungselektronik. In dieser Arbeit werden Kupferpartikel als Substitut für Silber in einem Fügematerial für Leistungselektronik untersucht. Die Eigenschaften der im Drucksintern erzeugten kupfernen Verbindungsschichten werden beschrieben. Die Auswertung der gesinterten Gefügestruktur, elektrischen Leitfähigkeit, Wärmeleitfähigkeit, thermischen Ausdehnung und mechanischen Eigenschaften wie Zugfestigkeit, Plastizität sowie Kriechverhalten ermöglichen die Einordnung des Kupfer-Sintermaterials gegenüber bestehenden Fügetechnologien. Der Einfluss der Prozessfaktoren (Druck, Temperatur und Prozesszeit) auf die Eigenschaften der gesinterten Kupferverbindung wird dargelegt und erlaubt die Bewertung der industriellen Umsetzbarkeit anhand eines Prozessfenster. In Alterungstests sowie passiven und aktiven Zuverlässigkeitstests wird das Potential von Kupfer als Fügematerial für Leistungselektronik der Zukunft gezeigt.


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